《数字集成电路设计基础》博士入学考试大纲
1、 引言
集成电路设计基础。
2、制造工艺
MOS晶体管制造工艺,了解芯片封装工艺。
3、器件
半导体器件,MOS管工作特点,器件模型。
4、CMOS反相器
反相器的电气特性,反相器性能指标的定量分析,反相器设计的优化,工艺缩小对于设计的影响。
5、设计组合电路
CMOS逻辑门系列――静态和动态、传输晶体管、无比和有比逻辑,优化逻辑门的方法,新型低功耗高性能电路的设计技术。要求掌握组合CMOS数字电路的特点和性能,包括CMOS数字电路的面积、速度和功耗,掌握一些可以明显提高电路性能的逻辑类型。
6、设计时序电路
寄存器、锁存器、触发器、振荡器、脉冲发生器和施密特触发器的实现,静态与动态电路实现的比较,时钟策略的选择。要求掌握时序模块的CMOS实现方法,学会选择合适的时序电路和时钟方法,以优化电路的性能、功耗和设计复杂性。
7、晶体管和版图
晶体管的结构、特性,版图的设计方法,版图设计规则以及设计规则的制定原则。要求掌握晶体管的结构及其特性,熟悉版图设计的基本概念和相关技术,了解基本的版图规则。
8、线
互联线的电路模型,互联参数的量化,导线的SPICE模型,工艺尺寸的减小及它对互联的影响。要求掌握现代半导体工艺中互联线的作用和特征,了解导线相关的寄生参数(电容、电阻、电感)。
9、ASIC介绍
ASIC类型,设计流程,ASIC经济学,ASIC单元库。
10、基于包的ASIC设计
门阵列与标准单元设计方法,库单元设计,库结构,布局布线,I/O单元,PAD,封装技术。
11、数据通路
数据通路,加法器,乘法器,移位器等基本运算功能块
12、存储器
存储器内核,存储器外围电路等
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